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J-GLOBAL ID：200903019242182608

エチレン重合体およびその製造法

Inventor： 菅 野 利 彦 ,  今 枝 かおり ,  後 藤 幸 孝 ,  桜 井 伸 彰
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995041092
Publication number (International publication number)：1996239412
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 機械的物性、透明性及び低温ヒートシール性等が良好で、成型時の吐出圧力が低く、高速成型しても表面あれ等を起こしにくく、かつ成型サイクル、成型速度を改善して生産性の大巾改良可能なエチレン重合体、及びその製造法を提供すること。【構成】 エチレン単独重合体あるいはエチレンとC 3〜20α-オレフィンとの共重合体であって、下記(イ)〜(ニ)を同時に充足するエチレン重合体、及びその製造法。(イ):MFR10/MFR2が10を越えること、(ロ):MFR2が50g/10分以下、MwとMFR2とが下記条件を満すこと、【数1】(ハ):Mw/Mnが1.5〜3.5の範囲内にあること、(ニ):M5/Mwが20未満であること。〔ここで、MFR10は 190°C、10Kg荷重時の押出量を、MFR2は 190°C、2.16Kg荷重時の押出量を、Mwは重量平均分子量を、Mnは数平均分子量を、M5は低角度レーザ光散乱光度計による還元散乱強度を高分子量側から積分し5%の積分強度を示す溶出位置の分子量を、示す〕

Claim (excerpt)：

エチレンの単独重合体あるいはエチレンと炭素数3〜20のα-オレフィンとの共重合体であって、下記の要件(イ)〜(ニ)を同時に充足することを特徴とする、エチレン重合体。要件(イ):190°C、10kg荷重時における押し出し量(MFR<SB>10</SB>)と190°C、2.16kg荷重時における押し出し量(MFR<SB>2</SB>)との比(FR値)が10を越えること、要件(ロ):190°C、2.16kg荷重時における押し出し量(MFR<SB>2</SB>)が50g/10分以下であり、かつ重量平均分子量(Mw)とMFR<SB>2</SB>とが下記の条件を満たすこと、【数1】要件(ハ):重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比が1.5〜3.5の範囲内にあること、要件(ニ):低角度レーザ光散乱光度計により測定された還元散乱強度を高分子量側から積分し、5%の積分強度を示す溶出位置の分子量(M<SB>5</SB>)と重量平均分子量(Mw)との関係がM<SB>5</SB>/Mw<20であること。

IPC (2)：

C08F 4/642 MFG ,  C08F 10/02 MST

FI (2)：

C08F 4/642 MFG ,  C08F 10/02 MST

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-163088
  
• 弾性で実質的に線状であるオレフィンポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-116625   Applicant：ザダウケミカルカンパニー