基板洗浄方法及び基板洗浄装置並びに液晶表示装置及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大岩増雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998054902
Publication number (International publication number)：1999244796
Application date： Mar. 06, 1998
Publication date： Sep. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】従来の基板洗浄装置と同程度の装置コストで、基板の中心部付近と外周部において均一な洗浄効果が得られる基板洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】基板1を所定の速度で回転させながら、アーム2に所定の間隔を置いて取り付けられた3本のブラシ3a、3b、3cを、基板1の中心部を通る円弧状の軌跡で複数回走査させる。ブラシ3aは、基板1の中心部から外周部にかけて全範囲を走査し、ブラシ3bは基板1の中心部付近を除く周辺の範囲、ブラシ3cはブラシ3bよりもさらに外周部を走査する。このように、基板1表面を走査するブラシの本数を、基板1の中心部付近よりも外周部に対して多くすることにより、基板の中心部付近と外周部の単位面積当たりの洗浄時間がほぼ等しくなり、基板1全面に均一な洗浄効果が得られる。また、ブラシ洗浄の他に、ノズルから超音波の発振を乗せた純水を噴射する超音波洗浄にも適用できる。

Claim (excerpt)：

被洗浄体である基板を所定の速度で回転させながら、上記基板表面に物理的な力を作用させる処理機構が取り付けられたアームを、上記基板上の所定の範囲内で複数回走査させ、上記物理的な力により上記基板表面の付着物を除去する基板洗浄方法であって、上記物理的な力を作用させる回数を、上記基板の中心部付近よりも外周部に対して多くしたことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (5)：

B08B 1/04 , B08B 3/02 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 643

FI (6)：

B08B 1/04 , B08B 3/02 B , B08B 3/02 D , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , H01L 21/304 643 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

回転式基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-307714 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
半導体基板の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-284790 Applicant：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
特開平4-044227

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