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J-GLOBAL ID：200903019345620328

プラズマ処理の終点検出方法及びその装置

Inventor：
高尾 和久

About 高尾 和久


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 小山 有
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000139440
Publication number (International publication number)：2001319924
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 モニタ波形のデータを移動平均処理した場合に、正確な終点検出ができるプラズマ処理の終点検出方法及びその装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理室内に反応ガスを間欠的に導入し、プラズマによって被処理基板を処理し、プラズマ処理室内のプラズマの所定波長の発光強度を信号として抽出し、この発光信号の変化から処理の終点を検出する方法として、この抽出した発光信号を前記プラズマ処理室内への反応ガスの導入周期よりも短い周期で前記導入周期に同期させて断続的に抽出し、この抽出した発光信号の強度の変化を示すデータに基づいて前記プラズマによる処理の終点を検出するようにした。
Claim (excerpt)：
プラズマ処理室内に反応ガスを間欠的に導入し、プラズマによって被処理基板を処理し、前記プラズマ処理室内のプラズマの所定波長の発光強度を信号として取出し、この発光信号の変化から処理の終点を検出する方法であって、この取出した発光信号を前記プラズマ処理室内への反応ガスの導入周期よりも短い周期で前記導入周期に同期させて断続的に抽出し、この抽出した発光信号の強度の変化を示すデータに基づいて前記プラズマによる処理の終点を検出することを特徴とするプラズマ処理の終点検出方法。
IPC (2)：
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
FI (2)：
C23F 4/00 F ,  H01L 21/302 E
F-Term (12)：
4K057DA14 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DJ02 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004CB02 ,  5F004CB16 ,  5F004DA04 ,  5F004DB02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特開平3-048423
  • 特開昭60-050923
  • プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-114885   Applicant：三菱電機株式会社, 三菱電機エンジニアリング株式会社
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