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J-GLOBAL ID：200903019353064426

化学増幅型レジスト用感光性ポリマ-及びこれを含む化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 崔 相 俊
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999231386
Publication number (International publication number)：2000063441
Application date： Aug. 18, 1999
Publication date： Feb. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 環状構造の主鎖を有する感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は化学増幅型レジストに用いられる式【化1】(式中、R1は水素原子、C1〜C20の脂肪族炭化水素、またはC7〜C20の脂環式炭化水素で、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニルまたは1-アルコキシエチル基で、l/(l+m+n)は0.0〜0.4、m/(l+m+n)は0.5、n/(l+m+n)は0.1〜0.5である。)である感光性ポリマー、及び前記ポリマーとPAGよりなるレジスト組成物である。

Claim (excerpt)：

式:【化1】(式中、R1は水素原子、C1〜C20の脂肪族炭化水素、またはC7〜C20の脂環式炭化水素で、R2はt-ブチル、テトラヒドロピラニルまたは1-アルコキシエチル基で、l/(l+m+n)は0.0〜0.4、m/(l+m+n)は0.5、n/(l+m+n)は0.1〜0.5である。)で示される化学増幅型レジスト用感光性ポリマー。

IPC (3)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

FI (3)：

C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 化合物とその製造方泡共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト用共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト組成物とその製造方法、フォトレジストパタ-ン形成方泡及び半導体素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-374661   Applicant：現代電子産業株式会社