化合物とその製造方泡共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト用共重合体樹脂とその製造方泡フォトレジスト組成物とその製造方法、フォトレジストパタ-ン形成方泡及び半導体素子

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：荒船博司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998374661
Publication number (International publication number)：1999279122
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Oct. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 TMAH現像液に耐える物性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】ノルボルネン-無水マレイン酸共重合体構造に、下記式(3)の単量体を導入した共重合体樹脂を含有させたフォトレジストである。【化1】

Claim (excerpt)：

下記式(3)で表されることを特徴とする化合物。【化1】

IPC (6)：

C07C 69/753 , C08F222/06 , C08F222/14 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027 , C08L 35/02

FI (6)：

C07C 69/753 C , C08F222/06 , C08F222/14 , G03F 7/039 601 , C08L 35/02 , H01L 21/30 502 R

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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