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J-GLOBAL ID：200903019378632127

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム

Inventor： ダニエル エヌ ガルバート ,  ヨス デ クラーク
Applicant, Patent owner： エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ
Agent (4)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004157637
Publication number (International publication number)：2004356634
Application date： May. 27, 2004
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

【課題】デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおけるスループットを高めるシステムならびに方法を提供する。【解決手段】第1露光期間中、第1のレチクルにより第1の基板セットをパターニングし第1のレチクルを第2のレチクルと交換する。第2露光期間中、第2のレチクルにより第1の基板セットをパターニングし第1の基板セットを第2の基板セットと交換し、第2露光期間中、第2の基板セットを第2のレチクルによりパターニングし第2のレチクルを第1のレチクルと交換する。第3露光期間中、第2の基板セットを第1のレチクルによりパターニングし、第2の基板セットを第3の基板セットと交換し、第3露光期間中、第3の基板セットを第1のレチクルによりパターニングし、第1のレチクルを第2のレチクルと交換する。第4露光期間中、第3の基板セットを第2のレチクルによりパターニングする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法において、 露光システム内のレチクルステージに第1のレチクルをロードし、 第1のペアの基板をロードし処理し露光し、該第1のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送し、 第1のレチクルを第2のレチクルと交換し、 前記第1のペアの基板を処理して露光し、該第1のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送し、 前記第1のペアの基板を第2のペアの基板と交換し、 該第2のペアの基板を処理して露光し、該第2のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送し、 第2のレチクルを第1のレチクルと交換し、 前記第2のペアの基板を処理して露光し、該第2のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送し、 前記第2のペアの基板を第3のペアの基板と交換し、 該第3のペアの基板を処理して露光し、該第3のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送し、 第1のレチクルを第2のレチクルと交換し、 前記第3のペアの基板を処理して露光し、該第3のペアの基板をデュアル基板ステージを介して露光システム内および露光システム外へ搬送することを特徴とする、 デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法。

IPC (1)：

H01L21/027

FI (2)：

H01L21/30 515G ,  H01L21/30 514C

F-Term (4)：

5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046CC14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-333241   Applicant：株式会社ニコン