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J-GLOBAL ID：200903019415128787

X線撮像装置

Inventor： 越柴 洋哉
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994048316
Publication number (International publication number)：1995260713
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】透過形ターゲットを使用した微小焦点X線撮像装置において、均一な明るさのX線透過像を得る。【構成】ベリリウム箔11にタングステン膜10を薄く蒸着したターゲットに対し、微細な集束電子線1を照射する。タングステン膜10は、環状の電子冷却素子14で冷却されている。電子線1の進行方向の延長線上を外してX線イメージインテンシファイア22を配置する。試料7の透過X線像をX線イメージインテンシファイア22とCCDカメラ24で検出する。【効果】薄い透過形ターゲットでは、電子線の進行方向に強いX線が発生する。電子線の進行方向の延長線上を外してX線イメージインテンシファイアを配置するため、一様な強度のX線がX線イメージインテンシファイアに入射する。このため、均一な明るさのX線透過画像が得られる。

Claim (excerpt)：

透過形ターゲットを使用したX線源に対して、斜めにX線像検出器を配置したX線撮像装置。

IPC (2)：

G01N 23/04 ,  G01N 23/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-326266
  
• 特開平4-144045
  
• X線利用の基板検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-045661   Applicant：オムロン株式会社