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J-GLOBAL ID:200903019788130889

植物栽培システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 鹿島 義雄 ,  甲斐 寛人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006316564
Publication number (International publication number):2008125479
Application date: Nov. 24, 2006
Publication date: Jun. 05, 2008
Summary:
【課題】 栽培者本人が植物栽培を管理するとともに、一、二週に一度程度、現地で農作業を行うことにより、自力で植物栽培を行うことができる植物栽培システムを提供する。 【解決手段】 吸水性フィルム24上に植物と養液とを隔離した状態で植物を栽培する水耕ベッド22、植物の生育に必要な量の養液が常時養液槽21に貯留されるように養液を補給し、かつ、予め設定したスケジュールに基づいて点滴を行う潅液・点滴装置23からなる水耕栽培装置2と、温室ハウス3、植物生育に関係する環境のデータを計測する環境データ計測機器4b、温室ハウス内の環境を調整するための温室ハウス環境調整機器4c、環境データ等に基づいて温室ハウス環境調整機器を制御させることにより温室ハウス内を設定値に自動制御する温室ハウス環境制御装置4dを備えた温室ハウス自動制御システム5とを備え、補給用の養液が残存する期間は植物が無人で生育できるようにする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
養液槽に貯留される養液の上に吸水性フィルムが敷設され吸水性フィルム上に植物を栽培する培地が形成されることにより植物と養液とを隔離した状態で植物を栽培する水耕ベッド、タンク内に補給用の養液を貯蔵するとともに養液槽に取り付けた水位センサの信号に基づいて植物の生育に必要な量の養液が常時養液槽に貯留されるように養液を補給し、かつ、予め設定したスケジュールに基づいて点滴を行う潅液・点滴装置からなる水耕栽培装置と、 水耕栽培装置が設置される空間を囲う温室ハウス、植物生育に関係する環境のデータを計測する環境データ計測機器、温室ハウス内の環境を調整するための温室ハウス環境調整機器、環境データ計測機器により計測された環境データ、または温室ハウス環境調整機器が有する内蔵センサにより計測された出力データに基づいて温室ハウス環境調整機器を制御させることにより温室ハウス内を設定値に自動制御する温室ハウス環境制御装置を備えた温室ハウス自動制御システムとを備え、 水耕栽培装置と温室ハウス自動制御システムとにより、補給用の養液が残存する期間は植物が無人で生育できるようにすることを特徴とする植物栽培システム。
IPC (7):
A01G 31/00 ,  A01G 1/00 ,  A01G 7/00 ,  A01G 9/14 ,  A01G 9/24 ,  A01G 27/00 ,  A01G 9/22
FI (14):
A01G31/00 612 ,  A01G1/00 301Z ,  A01G7/00 602D ,  A01G7/00 603 ,  A01G9/14 H ,  A01G9/24 K ,  A01G31/00 601B ,  A01G27/00 502R ,  A01G27/00 504B ,  A01G27/00 504C ,  A01G27/00 505 ,  A01G9/22 ,  A01G9/24 F ,  A01G9/24 G
F-Term (33):
2B022AA01 ,  2B022AA05 ,  2B022AB06 ,  2B022AB11 ,  2B022AB20 ,  2B029AA06 ,  2B029AB01 ,  2B029EC12 ,  2B029EC18 ,  2B029MA04 ,  2B029MA06 ,  2B029MA08 ,  2B029MA09 ,  2B029NA17 ,  2B029PA02 ,  2B029RA08 ,  2B029RB01 ,  2B314MA12 ,  2B314MA38 ,  2B314MA39 ,  2B314MA40 ,  2B314MA52 ,  2B314ND05 ,  2B314PB19 ,  2B314PB27 ,  2B314PB31 ,  2B314PB37 ,  2B314PC02 ,  2B314PC23 ,  2B314PC24 ,  2B314PC36 ,  2B314PD47 ,  2B314PD52
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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