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J-GLOBAL ID：200903019874521955

金属表面処理剤、金属材料の表面処理方法及び表面処理金属材料

Inventor：
迫 良輔

About 迫 良輔

, 
上野 圭一

About 上野 圭一

, 
本田 匠

About 本田 匠


Applicant, Patent owner：
日本パーカライジング株式会社

About 日本パーカライジング株式会社


Agent (1)： 坂口 昇造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999371035
Publication number (International publication number)：2001181860
Application date： Dec. 27, 1999
Publication date： Jul. 03, 2001
Summary：
【要約】【課題】 金属材料に優れた耐食性、耐アルカリ性及び耐指紋性を付与するために用いる、クロムを含有しない金属表面処理剤等の提供。【解決手段】 下記式の樹脂化合物、バナジウム化合物、及びZr、Ti、Mo、W、Mn及びCeから選ばれる金属の化合物を含有する金属表面処理剤:【化1】[式中、R1は-CH2-、-CH2-NH-CH2-または-CH=N-CH2-を表し、 YはH又は式(II)【化2】を表し、 Zは芳香族化合物残基等を表し、 WはH又は基Pであって、該Pは-CH2X、-CH2NHCH2X又は-CH=NCH2X(式中、XはOH、OR4、ハロゲン、-N(R5)(R6)又は-N+(R7)(R8)(R9)A-を表す)を表し、 基Pの置換割合は基Pの数/(ベンゼン環の数及び基Zの数の合計)=0.2〜4.0であり、 n=0〜29、m=0〜10]
Claim (excerpt)：
一般式(I)で表される樹脂化合物(a)と、少なくとも1種のバナジウム化合物(b)と、ジルコニウム、チタニウム、モリブデン、タングステン、マンガン及びセリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含む金属化合物(c)とを含有することを特徴とする金属表面処理剤:【化1】{式中、各R1は互いに独立に-CH2-、-CH2-NH-CH2-または-CH=N-CH2-を表し、Yは水素原子又は一般式(II)【化2】(式中、R2、R3は互いに独立に水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す)を表し、Zはホルムアルデヒドと付加縮合し得る芳香族化合物からその芳香環を構成する炭素原子に結合した水素原子が失われてできた、1〜4個の基-CH2X(式中Xは後述のWの定義中のXと同義である)を有していてもよい、nで括られた構造中の芳香環基とは異なる2価の基であるか、又はメラミン、グアナミンもしくは尿素の2つのアミノ基から水素原子が1つずつ失われてできた2価の基であり、各Wは互いに独立に水素原子又は基Pであって、該Pは-CH2X、-CH2NHCH2X又は-CH=NCH2X[式中、XはOH、OR4(R4は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基を表す)、ハロゲン原子、又は一般式(III)もしくは(IV)【化3】(式中、R5、R6、R7、R8及びR9は互いに独立に水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基を表し、A-は水酸イオン又は酸イオンを表す)で表される基を表す]を表し、基Pの置換割合は基Pの数/(ベンゼン環の数及び基Zの数の合計)=0.2〜4.0であり、nは0もしくは1〜29の整数を表し、mは0もしくは1〜10の整数を表す。}
F-Term (13)：
4K044AA02 ,  4K044AB02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA11 ,  4K044BA12 ,  4K044BA17 ,  4K044BA21 ,  4K044BB02 ,  4K044BC02 ,  4K044CA11 ,  4K044CA16 ,  4K044CA18 ,  4K044CA62
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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