Pat
J-GLOBAL ID:200903020026327764

多層配線基板およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998149381
Publication number (International publication number):1999340367
Application date: May. 29, 1998
Publication date: Dec. 10, 1999
Summary:
【要約】【課題】フリップチップ実装に好適な微細な回路形成が可能であり、また、コネクタや金具類、電池等の部材を接続したり、大電流を印加することも可能な種々の配線回路層を備えた多層配線基板を提供する。【解決手段】少なくとも熱硬化性樹脂を含む絶縁材料からなる絶縁層2a〜2dを積層してなる絶縁基板2と、絶縁基板2の表面および/または内部に形成された配線回路層3と、配線回路層3間を電気的に接続するためのビアホール導体4を具備する多層配線基板1において、少なくとも1つの絶縁層2a〜2d内に、金属箔等からなる厚さの異なる複数の配線回路層3a〜3dを形成するとともに、それらの配線回路層3のうち、少なくとも絶縁基板2表面に形成された配線回路層3a、3b、3cは絶縁基板2表面に埋設し、その断面形状が埋設側の辺が露出側の辺よりも長い略逆台形形状とする。
Claim (excerpt):
少なくとも熱硬化性樹脂を含む絶縁材料からなる絶縁層を積層してなる絶縁基板と、該絶縁基板の表面および/または内部に形成された配線回路層と、前記配線回路層間を電気的に接続するためのビアホール導体を具備する多層配線基板において、少なくとも1層の絶縁層内に、厚さの異なる配線回路層が形成されてなることを特徴とする多層配線基板。
IPC (4):
H01L 23/12 ,  H01L 21/60 311 ,  H05K 3/46 ,  H05K 3/20
FI (7):
H01L 23/12 N ,  H01L 21/60 311 S ,  H05K 3/46 N ,  H05K 3/46 Q ,  H05K 3/46 G ,  H05K 3/46 E ,  H05K 3/20 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 金属基板及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-142431   Applicant:富士電機株式会社
  • 配線基板
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-281818   Applicant:古河電気工業株式会社

Return to Previous Page