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J-GLOBAL ID：200903020051400271

洗浄用組成物

Inventor： 石川 浩一 ,  岩田 在博
Applicant, Patent owner： 株式会社トクヤマ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004062133
Publication number (International publication number)：2004285354
Application date： Mar. 05, 2004
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】 吸水性が低く、さらに腐食を促進するハロゲンイオンやBF4-イオン、アルカリ金属イオン等を含まず、かつ帯電防止性に優れた洗浄剤を得る。 【解決手段】 テトラオクチルアンモニウム・2,2,2-トリフルオロ-N-(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミド等の、第四級アンモニウム、第四級ホスホニウム又は第三級スルホニウムからなる群から選ばれる有機オニウムカチオンと、下記一般式(I)又は(II)【化1】【化2】(式中、A1、A2、B1、B2、B3はいずれも、フルオロアシル基、フルオロアルコキシカルボニル基、フルオロアルキルスルフォニル基、フルオロアルコキシスルフォニル基又はニトリル基を示す。)で示されるイミドアニオン又はメチドアニオンとからなる有機オニウム塩を、好ましくは炭化水素系有機溶剤が90質量%以上の有機溶剤に配合した洗浄用組成物。 【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

第4級アンモニウムカチオン、第4級ホスホニウムカチオン及び第3級スルフォニウムカチオンからなる群から選ばれる有機オニウムカチオンと、下記一般式(I)又は(II)

IPC (6)：

C11D7/60 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  G11B5/127

FI (6)：

C11D7/60 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  G11B5/127 D

F-Term (10)：

4H003AA02 ,  4H003AE01 ,  4H003AE04 ,  4H003AE09 ,  4H003AE10 ,  4H003DA15 ,  4H003EB02 ,  4H003ED03 ,  5D093FA15 ,  5D093HA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-292983   Applicant：株式会社ジャパンエナジー, 株式会社イノアックコーポレーション, 日鉱石油化学株式会社

Cited by examiner (3)

• 液晶用洗浄剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-120839   Applicant：三洋化成工業株式会社
• 特開平2-206700
  
• 特開平2-182792