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J-GLOBAL ID：200903037382470113

液晶用洗浄剤

Inventor： 吉田 理郎 ,  中山 光正
Applicant, Patent owner： 三洋化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999120839
Publication number (International publication number)：2000313899
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Nov. 14, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 微細なギャップを有する液晶セルに残存する液晶を除去するための洗浄剤で、洗浄性とリンス性に優れ、かつ液晶セルに電食を発生させない洗浄剤を提供すること。【解決手段】 アンモニウムカチオンと燐酸エステルアニオンおよび/またはカルボン酸アニオンからなる塩(例えば、トリメチルオクチルアンモニウム・ブチルホスフェート塩、ドデシルジメチルアンモニウム・グルコン酸塩)を含有する洗浄剤。

Claim (excerpt)：

一般式(1)で示される塩(A)を含有することを特徴とする液晶用洗浄剤。〔式(1)中、R1は炭素数1〜24の炭化水素基、R2、R3およびR4は、それぞれ水素、炭素数1〜24の炭化水素基または一般式(2)で表される基であり、Xn-はn価の燐酸エステルアニオン(a)および/またはカルボン酸アニオン(b)、nは1〜4の整数である〕-(R5O)p-H (2)〔式(2)中、R5は炭素数2〜4のアルキレン基、pは1〜6の整数である〕

IPC (6)：

C11D 1/62 ,  C11D 3/02 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/28 ,  G02F 1/13 101

FI (6)：

C11D 1/62 ,  C11D 3/02 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/28 ,  G02F 1/13 101

F-Term (19)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088JA05 ,  2H088JA13 ,  2H088MA20 ,  4H003AE05 ,  4H003AE06 ,  4H003AE10 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DA16 ,  4H003ED02 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003FA15 ,  4H003FA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 水系洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-330736   Applicant：花王株式会社
• 半導体装置洗浄剤および半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-000520   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社, 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社
• 半導体素子製造用洗浄液及びそれを用いた半導体素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-211217   Applicant：株式会社日立製作所, 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社, 三菱瓦斯化学株式会社
• フォトレジスト用剥離液及び配線パターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-082518   Applicant：三菱瓦斯化学株式会社, シャープ株式会社
• 特開平4-136194
  
• フォトレジスト剥離用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-178927   Applicant：東レ・ファインケミカル株式会社
• 液晶パネル用洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-360692   Applicant：ライオン株式会社
• 特開平4-136194