LPPのEUV光源

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2007503940
Publication number (International publication number)：2007529903
Application date： Mar. 03, 2005
Publication date： Oct. 25, 2007
Summary：

【課題】レーザビームによるターゲットの照射により開始されたプラズマによって生成されるEUV光源を提供する。【解決手段】初期ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内EUV光を放出する放出領域を有するプラズマを発生させるEUVを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマの放出領域に向けてプラズマ内の放出材料を圧縮するために初期ターゲット照射パルス後にプラズマをプラズマ照射パルスで照射するレーザプラズマ照射パルス発生機構とを含むことができる、LPPのEUV光源においてプラズマ照射レーザ光パルスを有効かつ効率的に供給するための機器及び方法。プラズマ照射パルスは、関連のより低い臨海密度を有して放出材料の圧縮を達成するために初期ターゲット照射サイトから十分に分離されたプラズマ照射パルスの波長によって形成されたプラズマの領域におけるプラズマ内で発生する吸収をもたらすように、初期ターゲット照射パルスの波長よりも十分に長い波長を有するレーザパルスを含むことができ、かつ放出領域を圧縮することができる。レーザプラズマ照射パルスは、変換効率増大のために好都合に放出されるプラズマを閉じ込めるのに十分なプラズマの融除雲内の空中質量密度を生成することができる。プラズマ照射パルスに対する堆積領域は、好都合に放出されるプラズマの圧縮を保証するために初期ターゲット表面から十分に除去することができる。高変換効率レーザ生成プラズマ極紫外線(EUV)光源は、ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内EUV光を放出するプラズマを発生させるEUVを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマを実質的に取り囲んでプラズマの膨張を抑制するプラズマタンパーとを含むことができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

高変換効率レーザ生成プラズマ極紫外線(EUV)光源であって、初期ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内EUV光を放出する放出領域を有するEUV発生プラズマを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、前記プラズマ内の放出材料を該プラズマの前記放出領域に向けて圧縮するために、前記初期ターゲット照射パルス後のプラズマ照射パルスで該プラズマを照射するレーザプラズマ照射パルス発生機構と、を含むことを特徴とする光源。

IPC (3)：

H01L 21/027 , H05G 2/00 , H01S 3/00

FI (3)：

H01L21/30 531S , H05G1/00 K , H01S3/00 A

F-Term (13)：

4C092AA06 , 4C092AB10 , 4C092AC09 , 5F046GC03 , 5F172AD07 , 5F172AE08 , 5F172AF02 , 5F172DD03 , 5F172NR03 , 5F172NR13 , 5F172NR22 , 5F172ZZ14 , 5F172ZZ20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

米国特許出願出願番号第10/979,919号
米国特許第6,625,191号
米国特許第6,549,551号

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Cited by examiner (1)

レーザ照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-281143 Applicant：三菱電機株式会社

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