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J-GLOBAL ID：200903020088097544
非ミラー状シリコンウェハーおよびその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
千田 稔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994282698
Publication number (International publication number)：1996124894
Application date： Oct. 21, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】 広い面積のウェハー全域に及ぶ均一性の高い、ムラのない超薄型ウェハー仕上げ、および光電変換効率の向上を図るため、表面反射の低減、単位受光面の拡大などの特殊表面仕上げ非ミラー状シリコンウェハーおよびその製造方法の提供。【構成】 ウェハー全面に均一に平均高さ5μm以下の、非鋭尖形曲面状頂部の突起を有する非ミラー状シリコンウェハー、および、硫酸、硝酸および弗酸が、それぞれ95%硫酸、70%硝酸、49%弗酸として、硫酸、硝酸、および弗酸の容量比が硫酸33-90%、硝酸5-50%、弗酸4-40%である混合物をエッチャントとする異方性エッチング方法。
Claim (excerpt)：
ウェハー全面に均一に平均高さ5μm以下の、非鋭尖形曲面状頂部の突起を有する非ミラー状シリコンウェハー。
Patent cited by the Patent：
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