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J-GLOBAL ID：200903020144587940

高さ測定方法及び高さ測定装置、並びに信号処理方法

Inventor： 堀之内 健人 ,  黒田 雅博 ,  小泉 光義 ,  加藤 昇 ,  熊沢 豊
Applicant, Patent owner： 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 高橋 浩三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004210901
Publication number (International publication number)：2006030039
Application date： Jul. 20, 2004
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：

【課題】振動の影響を受けずに、被測定物の高さを精度良く測定する。【解決手段】受光系の焦点位置を移動しながら、被測定物の表面又は基準面からの反射光をピンホール14を通して受光する。受光系の焦点位置が測定物の表面又は基準面に合っていないとき、反射光はピンホール14で遮断されてほとんど受光されない。受光系の焦点位置が測定物の表面又は基準面に合ったとき、反射光はピンホール14を通過して強く受光される。受光した反射光の輝度信号の変化から、被測定物の表面に合った光学系の焦点位置と、基準面に合った光学系の焦点位置とを検出し、両者の差異から被測定物の高さを求める。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被測定物の基準面からの高さを測定する高さ測定方法であって、 光学系の焦点位置を移動しながら、 検査光を被測定物の表面及び基準面へ照射し、 検査光が被測定物の表面又は基準面で反射された反射光をピンホールを通して受光して、 受光した反射光の輝度信号の変化から、被測定物の表面に合った光学系の焦点位置と、基準面に合った光学系の焦点位置とを検出し、両者の差異から被測定物の高さを求めることを特徴とする高さ測定方法。

IPC (1)：

G01B 11/02

FI (1)：

G01B11/02 H

F-Term (31)：

2F065AA24 ,  2F065BB01 ,  2F065BB22 ,  2F065CC02 ,  2F065CC21 ,  2F065DD03 ,  2F065DD14 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065FF67 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ42

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 液晶表示装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-092195   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (4)

• 深さ測定装置及び膜厚測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-346044   Applicant：レーザーテック株式会社
• 結像位置算出方法、結像位置算出装置および結像位置算出プログラムを記録した記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-062360   Applicant：日本電信電話株式会社
• ボンディングワイヤ検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-048856   Applicant：富士通株式会社
• 共焦点型レーザー顕微鏡における合焦点位置決定方法および測定対象物の表面の高さ測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-060155   Applicant：大日本印刷株式会社