プロセス制御用コントローラの保守支援システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：猪股祥晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002048374
Publication number (International publication number)：2003248515
Application date： Feb. 25, 2002
Publication date： Sep. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】保全業務に関して、従来の耐用年数をベースとした予防保全ではなく、実際の設備の特性データをベースとした最適な時期での部品交換や設備更新を行うことによる設備投資の抑制による経済性と、安定運転するための設備の保全との両立が求められている。【解決手段】プロセス制御用コントローラに供給される制御電源の電圧信号を入力し、この電圧信号の電圧値及びリップル値を抽出する回路と、これら電圧値及びリップル値をディジタル信号に変換する変換回路と、この変換回路の出力データを送信する信号発信回路とを有する情報収集装置と、前記プロセス制御用コントローラの外部に設置され、前記信号発信回路とデータを交信するデータ送受信部及び受信データを保存するデータ保存部を有するデータ送受信装置とから構成した。

Claim (excerpt)：

プロセス制御用コントローラに供給される制御電源の電圧信号を入力し、この電圧信号の電圧値及びリップル値を抽出する回路と、これら電圧値及びリップル値をディジタル信号に変換する変換回路と、この変換回路の出力データを送信する信号発信回路とを有する情報収集装置と、前記プロセス制御用コントローラの外部に設置され、前記信号発信回路とデータを交信するデータ送受信部及び受信データを保存するデータ保存部を有するデータ送受信装置とからなるプロセス制御用コントローラの保守支援システム。

IPC (3)：

G05B 23/02 301 , G05B 23/02 , G06F 17/60 138

FI (3)：

G05B 23/02 301 V , G05B 23/02 T , G06F 17/60 138

F-Term (9)：

5H223AA03 , 5H223CC03 , 5H223DD03 , 5H223DD07 , 5H223DD09 , 5H223EE06 , 5H223EE13 , 5H223EE17 , 5H223EE30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-217019 Applicant：株式会社山武
電源監視装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-353523 Applicant：株式会社日立製作所
監視制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-085361 Applicant：ユーシン電機株式会社, 株式会社東芝

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