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J-GLOBAL ID:200903020166253205

内部品質計測装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北村 修一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004231356
Publication number (International publication number):2006047216
Application date: Aug. 06, 2004
Publication date: Feb. 16, 2006
Summary:
【課題】 装置全体の小型化と受光手段のメンテナンス作業の容易化との両立を図る。【解決手段】 被計測物Mを載置部51に載置した状態で計測箇所Pmを経由して搬送し且つ載置部51が上下方向に光が通過可能に構成された搬送手段4と、計測箇所Pmに位置する被計測物Mに光を投射する投光手段1と、投光手段1から光が投射された被計測物Mからの光を載置部51を通して受光して、その受光した光を分光して被計測物Mのデータを計測する受光手段2と、その被計測物Mのデータに基づいて被計測物Mの内部品質情報を求める制御手段3とが設けられた内部品質計測装置であって、受光手段2が、被計測物Mからの光を受光するための計測位置P1と、その計測位置P1から退避したメンテナンス位置P2とに移動自在に設けられている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
被計測物を載置部に載置した状態で計測箇所を経由して搬送し且つ前記載置部が上下方向に光が通過可能に構成された搬送手段と、 前記計測箇所に位置する前記被計測物に光を投射する投光手段と、 前記投光手段から光が投射された前記被計測物からの光を前記載置部を通して受光して、その受光した光を分光して前記被計測物のデータを計測する受光手段と、 その被計測物のデータに基づいて前記被計測物の内部品質情報を求める制御手段とが設けられた内部品質計測装置であって、 前記受光手段が、前記被計測物からの光を受光するための計測位置と、その計測位置から退避したメンテナンス位置とに移動自在に設けられている内部品質計測装置。
IPC (2):
G01N 21/35 ,  G01N 21/27
FI (2):
G01N21/35 Z ,  G01N21/27 Z
F-Term (19):
2G059AA01 ,  2G059BB11 ,  2G059DD12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ23 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM05 ,  2G059MM10 ,  2G059NN08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 青果類の評価装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-208020   Applicant:三井金属鉱業株式会社
Cited by examiner (2)

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