Pat

J-GLOBAL ID：200903020192203674

成膜装置

Inventor： 山本 敏隆 ,  粟井 清
Applicant, Patent owner： 住友重機械工業株式会社
Agent (1)： 井上 義雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999092147
Publication number (International publication number)：2000286327
Application date： Mar. 31, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 被処理面を上側にして処理を行う装置と被処理面を下側にして成膜を行う成膜装置との間での円滑な基板の受け渡しを簡易にすること。【解決手段】 ハンド20によって成膜室41中に搬入された基板Wは、チャック駆動機構70に駆動されたチャック60によって把持され反転される。温調板駆動機構80は、温度調節部材65を下降させて基板Wの裏面に接触させる。基板Wは、温調された状態で下側の被処理面に成膜される。成膜が終了した基板Wは、温度調節部材65を上方に待避させ、チャック60を回転させることにより、反転する。これにより、基板Wの上面が成膜面となる。

Claim (excerpt)：

デポアップ型の成膜装置において、膜形成面を上側にして搬送されてきた基板を成膜室に搬入するとともに、当該基板を前記成膜室中で反転させて前記膜形成面を下側にするハンドリング手段を備えることを特徴とする成膜装置。

IPC (5)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/32 ,  C23C 14/50 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (6)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 A ,  C23C 14/32 Z ,  C23C 14/50 K ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205

F-Term (40)：

4K029AA24 ,  4K029CA03 ,  4K029DA08 ,  4K029DD00 ,  4K029DD05 ,  4K029EA06 ,  4K029KA01 ,  4K029KA02 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA21 ,  5F031GA06 ,  5F031GA47 ,  5F031GA51 ,  5F031MA28 ,  5F031MA31 ,  5F031NA08 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045DP23 ,  5F045DQ08 ,  5F045DQ15 ,  5F045EB02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH08 ,  5F045EH16 ,  5F045EK23 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04 ,  5F045HA25 ,  5F103AA02 ,  5F103BB09 ,  5F103BB38 ,  5F103BB41 ,  5F103BB49 ,  5F103RR05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-338478   Applicant：住友重機械工業株式会社