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J-GLOBAL ID:200903020204518366

荷電粒子ビ-ム照射方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 勝男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999006085
Publication number (International publication number):2000202047
Application date: Jan. 13, 1999
Publication date: Jul. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】荷電粒子ビームを照射する方向を変えたときでも、患部(標的)に対して正確に荷電粒子ビームを照射することができる荷電粒子ビーム照射方法及び装置を提供することにある。【解決手段】シンクロトロン1から出射された荷電粒子ビームを、回転照射装置2により照射対象の内部にある標的に対して複数の方向から照射する場合において、回転照射装置2により標的に対する荷電粒子ビームの照射の方向を変更するときに、シンクロトロン1において荷電粒子ビームのエネルギーを照射対象における標的の深さ位置に応じて変更する。
Claim (excerpt):
照射対象の内部にある標的に対して複数の方向から荷電粒子ビームを照射する荷電粒子ビーム照射方法において、前記標的に対する荷電粒子ビームの照射の方向を変更するときに、荷電粒子ビームのエネルギーを変更することを特徴とする荷電粒子ビーム照射方法。
FI (2):
A61N 5/10 D ,  A61N 5/10 M
F-Term (14):
4C082AA01 ,  4C082AC02 ,  4C082AC04 ,  4C082AC05 ,  4C082AC06 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG13 ,  4C082AG42 ,  4C082AG52 ,  4C082AJ08 ,  4C082AN02 ,  4C082AP02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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