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J-GLOBAL ID：200903020257966638

通気攪拌培養槽の運転制御方法

Inventor：
春日井 徹

About 春日井 徹

, 
村上 聖

About 村上 聖

, 
原田 進

About 原田 進


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000052312
Publication number (International publication number)：2001231544
Application date： Feb. 24, 2000
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：
【要約】【課題】本発明は、通気攪拌培養槽において、溶質ガス濃度分布を考慮した運転条件の評価・検討をする方法がなく、実際に槽を製作して評価していた。また溶存酸素濃度を計測しても、計測点における評価にとどまり、全体の分布の評価はできなかった。本発明の目的は、溶存酸素濃度の分布を演算し、最適な分布になるようにするための運転制御方法を提供することにある。【解決手段】ガス移動容量係数klaの分布を計算し、その結果により液中の溶質ガス濃度分布を計算し、溶質ガス濃度が槽内全域で培養条件を満たすように前記培養槽の攪拌回転数、通気量、通気ガス中の酸素分圧あるいは内圧を調整することを特徴とする。運転制御を行う。
Claim (excerpt)：
通気攪拌培養槽内の溶質ガス濃度分布を最適に制御する方法において、前記槽内の複数点で溶存酸素濃度を計測し、前記槽のガス移動容量係数の分布を求め、前記分布を用いて溶存酸素濃度分布を演算し、前記計測された溶存酸素濃度を用いて前記溶存酸素濃度分布を補正し、前記補正された溶存酸素濃度分布のうち培養条件から外れている領域があるかどうかを判断し、培養条件から外れている領域がある場合は溶存酸素濃度分布があらかじめ定められた値になるまで前記培養槽の攪拌回転数、通気量、通気ガス中の酸素分圧あるいは内圧を調整することを特徴とする通気攪拌培養槽の運転制御方法。
IPC (6)：
C12N 1/00 ,  C02F 3/00 ,  C12M 1/00 ,  C12M 1/04 ,  C12M 1/06 ,  C12M 1/36
FI (6)：
C12N 1/00 D ,  C02F 3/00 G ,  C12M 1/00 D ,  C12M 1/04 ,  C12M 1/06 ,  C12M 1/36
F-Term (16)：
4B029AA02 ,  4B029BB01 ,  4B029CC01 ,  4B029DB01 ,  4B029DB11 ,  4B029DB12 ,  4B029DF04 ,  4B029DF08 ,  4B029DF10 ,  4B065BC05 ,  4B065BC06 ,  4B065BC08 ,  4B065BC12 ,  4B065BC14 ,  4B065BC18 ,  4B065CA60
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 通気撹拌槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-246929   Applicant：株式会社日立製作所
Cited by examiner (1)
  • 通気撹拌槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-246929   Applicant：株式会社日立製作所
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)
  • Fluent NEWS, 2003, fall, p. 17

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