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J-GLOBAL ID：200903020585707712
複製による光学素子の製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
園田 吉隆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000553840
Publication number (International publication number)：2002517343
Application date： Jun. 08, 1999
Publication date： Jun. 18, 2002
Summary：
【要約】この発明は、マトリクスを用いた複製による光学素子の製造方法に関するものである。この発明は、この方法により得られる光学素子にも関連している。これらの光学素子は、特に、回折光学素子、例えば、回折の優先順に従って、光線を迂回させるために、光学素子において使用される光回折格子である。
Claim (excerpt)：
マトリクスを用いた複製による光学素子の製造方法であって、第1に、前記マトリクスを処理するために、 - 洗浄したマトリクスに、液相堆積技術を用いて、離型剤を塗布し、 - 該離型剤で被覆したマトリクスを熱処理にかけ、 第2に、複写キャリアを準備するために、 - 洗浄した基板上に、接着促進剤または結合剤を、液相堆積技術を用いて塗布し、 - 接着促進剤または結合剤で被覆した基板を熱処理にかけ、 マトリクスの処理または複写キャリアの準備のいずれかを完了させるために、液相堆積技術を用いて、複写材料を、前記離型剤で被覆され熱処理された前記マトリクスまたは前記接着促進剤または結合剤で被覆され熱処理された基板のいずれかに塗布し、複写材料で被覆されたマトリクスまたは基板のいずれかを熱処理にかけ、 - 処理されたマトリクスおよび準備された複写キャリアを、別々にエンボス加工温度まで昇温させ、 - 前記マトリクスおよび前記複写キャリアを組み合わせ、マトリクスを複写キャリア上、または、複写キャリアをマトリクス上に加圧してエンボス加工し、 - 確実に複製するのに十分な時間にわたって組立温度および圧力を維持し、 - 冷却後に、複製された光学素子を保持している前記複写キャリアを、マトリクスから分離することを特徴とする製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (19)：
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA37
, 2H049AA39
, 2H049AA43
, 2H049AA53
, 2H049AA58
, 4F213AA16
, 4F213AA19
, 4F213AH73
, 4F213WA12
, 4F213WA53
, 4F213WA54
, 4F213WA58
, 4F213WA67
, 4F213WA87
, 4F213WB01
, 4F213WC02
, 4F213WF24
Cited by examiner (6)
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