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J-GLOBAL ID：200903020589163660

走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法

Inventor：
佐藤 光弥

About 佐藤 光弥


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993279575
Publication number (International publication number)：1995135158
Application date： Nov. 09, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：
【要約】【目的】 走査露光時の露光時間を短くすること。【構成】 露光光と投影光学系15とに対してレチクル10とウエハ16を走査することにより前記レチクルのパターンを前記投影光学系を介して前記ウエハ上に投影露光する装置において、前記レチクルとウエハを走査する時の加速時及び/または減速時に前記レチクルのパターンを介して前記ウエハを露光するよう設定してあり、前記加速時及び/または減速時の前記ウエハに対する露光量がほぼ一定になるよう前記走査の速度に応じて前記露光光の強度を変える強度変調手段5,6を有する。
Claim (excerpt)：
露光光で原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを介して前記基板を露光する装置において、前記走査の加速時及び/または減速時に前記原板のパターンを介して前記基板を露光する手段を有することを特徴とする走査型露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 502 G
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 走査型露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-218132   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開昭63-033818
  • 特開昭62-193125
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Cited by examiner (1)
  • 走査型露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-218132   Applicant：株式会社ニコン

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