Pat
J-GLOBAL ID:200903020625019865
着色レジストの塗布方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997141274
Publication number (International publication number):1998328614
Application date: May. 30, 1997
Publication date: Dec. 15, 1998
Summary:
【要約】【課題】 レジスト膜厚の変動が少ない、着色レジストの塗布方法。【解決手段】 透明基板上のレジスト膜の透過光強度に基づいて膜厚値を演算する膜厚測定装置からの測定値をもとに、塗布装置の回転数を制御する事を特徴とする、着色レジストの塗布方法。
Claim (excerpt):
透明基板上に着色レジストを滴下し、該基板を回転させることにより基板上に着色レジスト膜を形成する塗布装置を用いて着色レジスト膜を形成する塗布方法において、基板上のレジスト膜の透過光強度に基づき膜厚値を演算する膜厚測定装置からの測定値をもとに、塗布装置の回転数を制御することを特徴とする着色レジストの塗布方法。
IPC (9):
B05D 1/40
, B05C 11/08
, B05D 3/00
, G01B 11/06
, G02B 5/00
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
FI (9):
B05D 1/40 A
, B05C 11/08
, B05D 3/00 F
, G01B 11/06 Z
, G02B 5/00 B
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
, G03F 7/16 502
, H01L 21/30 564 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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ホトレジスト塗布装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-175170
Applicant:株式会社日立製作所
-
顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-156375
Applicant:日本化薬株式会社
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