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J-GLOBAL ID：200903020719093872

セラミック層の製造方法

Inventor： フランク ヒンターマイヤー ,  カルロス マズレ-エスペジョ
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998278466
Publication number (International publication number)：1999214657
Application date： Sep. 30, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 基板上に少なくとも2種類の先駆物質からなる、特に強誘電性、誘電性もしくは常誘電性特性を有するセラミック層を製造する方法を提供する。【解決手段】 前記セラミック層を製造するために、先駆物質のための溶剤として専ら有機酸CnH2n+1COOH(式中、n=0,1又は2である)並びに場合により水を使用し、次いで、溶解した先駆物質を基板上に塗布し、次いで、加熱する。【効果】 無毒の溶剤及び簡単に構成された先駆物質を使用することができ、かつ基板上へのセラミック層の製造が簡単である。

Claim (excerpt)：

基板上に少なくとも2種類の先駆物質からなるセラミック層を製造する方法において、先駆物質のための溶剤として専ら有機酸CnH2n+1COOH(式中、n=0,1又は2である)並びに場合により水を使用し、次いで、溶解した先駆物質を基板上に塗布し、次いで、加熱することにより層を製造することを特徴とする、セラミック層の製造方法。

IPC (7)：

H01L 27/108 ,  H01L 21/8242 ,  B32B 18/00 ,  H01B 3/12 318 ,  H01B 5/14 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 21/316

FI (6)：

H01L 27/10 651 ,  B32B 18/00 Z ,  H01B 3/12 318 G ,  H01B 5/14 Z ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 21/316 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 複合金属酸化物誘電体薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-134026   Applicant：シャープ株式会社
• ペロブスカイト皮膜の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-241138   Applicant：レイセオン・カンパニー
• 特開平4-139064
  
• 特開平3-295808
  
• Bi系酸化物超電導体の製造方法及びその形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-281668   Applicant：三菱電線工業株式会社
• 圧電体薄膜およびその製造法ならびにそれを用いたインクジェット記録ヘッド
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-081690   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 特開平4-139064
  
• 特開平3-295808
  
• 特開平4-295013
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• Formation of SrBi2Ta2O9: Part I. Synthesis and characterization of a novel "so-gel" solution for pro
• Formation of SrBi2Ta2O9: Part I. Synthesis and characterization of a novel "so-gel" solution for pro