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J-GLOBAL ID：200903020862383580

レジストパターン及びエッチングパターンの製造方法

Inventor：
岩沢 直純

About 岩沢 直純


Applicant, Patent owner：
関西ペイント株式会社

About 関西ペイント株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994182800
Publication number (International publication number)：1996029979
Application date： Jul. 11, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】 作業条件幅が広く、高解像度、高信頼性、高パターン再現性のある、レジストパターンやエッチングパターンを形成する。【構成】 〔A〕(a)C1 〜3 アルキルメタクリレート及びアクリル酸メチルから選ばれるモノマー、(b)アクリル酸及び/又はメタクリル酸、及び(c)水酸基含有重合性モノマーを必須成分とするTg点20〜100°C、酸価20〜150、水酸基価20〜120であってモノマー成分中、モノマー(a)を20重量%以上含有する共重合体50〜95重量部、〔B〕多官能化合物5〜50重量部、及び〔C〕光重合開始剤を含有する電着塗料浴にて導電性基体上に感光性被膜を形成した後、画像状に露光、現像処理するレジストパターンの製造方法および更にエッチング処理するエッチングパターンの製造方法。
Claim (excerpt)：
〔A〕(a)炭素数1〜3の一価アルコールのメタクリル酸エステル及びアクリル酸メチルエステルから選ばれる少なくとも1種のモノマー、(b)アクリル酸及びメタクリル酸から選ばれる少なくとも1種のカルボキシル基含有モノマー、(c)水酸基含有重合性モノマー、及び必要に応じて、(d)そのものから形成されるホモポリマーのガラス転移温度が5°C以上であり、カルボキシル基及び水酸基のいずれをも含有せず且つ上記モノマー(a)以外である重合性モノマーをモノマー成分とするガラス転移温度が20〜100°C、酸価20〜150、水酸基価20〜120であって、モノマー成分中、モノマー(a)を20重量%以上含有する共重合体、〔B〕光重合性不飽和結合を分子中に2個以上有する多官能化合物、及び〔C〕光重合開始剤を含有し、共重合体〔A〕と多官能化合物〔B〕との合計量100重量部中、共重合体〔A〕が50〜95重量部、多官能化合物〔B〕が5〜50重量部である感光性組成物を中和、水性化してなる水溶性又は水分散性の電着塗料浴に、表面が導電性被膜で覆われた基体を陽極として浸漬し、対極との間に通電して電着塗装することにより該基体表面上に感光性被膜を形成した後、該感光性被膜上に活性光線を画像状に照射して露光部を光硬化させ、次いで現像処理によって感光性被膜の未露光部を除去することを特徴とするレジストパターンの製造方法。
IPC (6)：
G03F 7/033 ,  C09D 5/44 PRS ,  C25D 13/06 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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