電子線描画用精度測定方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡▲崎▼ 信太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997313346
Publication number (International publication number)：1999145047
Application date： Nov. 14, 1997
Publication date： May. 28, 1999
Summary：

【要約】【課題】効率的にかつ正確に位置ずれを検出するするとともに接続精度を測定することができる電子線描画用測定装置を提供すること。【解決手段】主尺パターン10と副尺パターン20を用いて、対象物に対して電子線によりパターンを描画する電子線描画装置の位置ずれ精度を測定する電子線描画用精度測定方法にであって、メッシュ状の主尺パターンを対象物に塗布されたレジストに描画し、主尺パターンとピッチの違うメッシュ状のパターンの副尺パターンを、対象物に描画された主尺パターンに重ねて描画して、主尺パターンと副尺パターンの重ね合わされた領域である複数のバーニアパターンの面積を測定し、バーニアパターンのうち最も面積が大きいバーニアパターンの座標を測定する。

Claim (excerpt)：

主尺パターンと副尺パターンを用いて、対象物に対して電子線によりパターンを描画する電子線描画装置の位置ずれ精度を測定する電子線描画用精度測定方法にであって、メッシュ状の主尺パターンを対象物に塗布されたレジストに描画し、主尺パターンとピッチの違うメッシュ状の副尺パターンを、対象物に描画された主尺パターンに重ねて描画して、主尺パターンと副尺パターンの重ね合わされた領域である複数のバーニアパターンの面積を測定し、バーニアパターンのうち最も面積が大きいバーニアパターンの座標を測定し、測定された座標に基づいて位置ずれ精度を測定することを特徴とする電子線描画用精度測定方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 7/20 504 , H01J 37/305

FI (4)：

H01L 21/30 541 K , G01B 11/00 A , G03F 7/20 504 , H01J 37/305 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

半導体装置のパターン合わせノギス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-164263 Applicant：日本電気株式会社

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