皮膚化粧料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：倉内基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995275034
Publication number (International publication number)：1997095419
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】皮膚化粧料を提供する。【解決手段】次式:【化1】[式中、R1 は脂肪族不飽和を含まない1価の炭化水素基を表し、Xは式-R3-Z(R3 は直接結合または炭素原子数1〜20の二価炭化水素基を表し、Zはアミノ基含有基またはエポキシ基含有基を表す)で表される反応性官能基を表し、R2 はR1 またはXのいずれかを表し、nは2〜4の整数であり、aは少なくとも2の整数であり、bは少なくとも1の整数であり、cは少なくとも4の整数であり、dは少なくとも2の整数であり、Yは炭素-珪素によって隣接珪素原子にそして酸素原子によってポリオキシアルキレンブロックに結合している2価の有機基を表す]で表される反応性シリコーン系ブロック共重合体を含有する。肌に耐久性および持続性があるしっとり感がありべとつきのない好ましい感触と光沢感を付与でき、汗くずれがなく、塗布時の皮膚感触等の使用感がよく、皮膚への成分の保持効果が優れている等の効果がある。

Claim (excerpt)：

次式:【化1】[式中、R1 は脂肪族不飽和を含まない1価の炭化水素基を表し、Xは次式:-R3 -Z(式中、R3 は直接結合または炭素原子数1〜20の二価炭化水素基を表し、Zはアミノ基含有基またはエポキシ基含有基を表す)で表される反応性官能基を表し、R2 はR1 またはXのいずれかを表し、nは2〜4の整数であり、aは少なくとも2の整数であり、bは少なくとも1の整数であり、cは少なくとも4の整数であり、dは少なくとも2の整数であり、Yは炭素-珪素によって隣接珪素原子にそして酸素原子によってポリオキシアルキレンブロックに結合している2価の有機基を表し、各シロキサンブロックの平均分子量は約250〜約10,000であり、各ポリオキシアルキレンブロックの平均分子量は約200〜約10,000であり、シロキサンブロックは共重合体の約25〜約95重量%を構成し、そしてブロック共重合体は少なくとも約1,200の平均分子量を有する]で表される反応性シリコーン系ブロック共重合体を含有することを特徴とする皮膚化粧料。

IPC (5)：

A61K 7/00 , A61K 7/027 , A61K 7/38 , A61K 7/42 , C08L 83/12 LRR

FI (5)：

A61K 7/00 J , A61K 7/027 , A61K 7/38 , A61K 7/42 , C08L 83/12 LRR

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

反応性オルガノポリシロキサン
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-137626 Applicant：日本ユニカー株式会社
特開平4-234307
毛髪化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-156326 Applicant：日本ユニカー株式会社

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