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J-GLOBAL ID：200903020974965620

ドライエッチング装置

Inventor： 武 石 浩 司
Applicant, Patent owner： 株式会社芝浦製作所
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993243063
Publication number (International publication number)：1995106303
Application date： Sep. 29, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 静電吸着力が劣化しない静電チャック電極を備えたドライエッチング装置を提供する。【構成】 真空容器(1)に載置台(3)を取り付け、この載置台(3)の上に、被処理物を静電気力で吸着する静電チャック(4)を固定する。この静電チャック(3)は金属薄膜製の電極板(7)と、この電極板の両面に貼着された上部絶縁層(10)と下部絶縁層(11)とからなり、上記上部絶縁層(10)の表面にセラミック層(12)が形成される。

Claim (excerpt)：

真空容器と、この真空容器に取り付けられた載置台と、この載置台上に固定され、被処理物を静電気力で吸着する静電チャックとを有し、この静電チャックは金属薄膜製の電極板と、この電極板の両面に貼着された高分子有機材製の上部絶縁層と下部絶縁層とからなり、上記高分子有機材製の上部絶縁層の表面にセラミック層が形成されたことを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-186653
  
• 特開平3-187240
  
• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-080416   Applicant：東陶機器株式会社