耐摩耗薄膜形成方法及び耐摩耗薄膜

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大川宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993266589
Publication number (International publication number)：1995118425
Application date： Oct. 25, 1993
Publication date： May. 09, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】製造コストが安価であるとともに量産性に優れ、かつ強固な密着力を有して優れた耐摩耗性を確実に発揮する耐摩耗薄膜を樹脂基板上に形成する。【構成】アクリル系光重合硬化塗料と、シラノール基を有するポリシロキサン組成物を含有する未硬化下地層2を樹脂基板1上に形成し、この未硬化下地層2上にシリコン系熱重合硬化塗料からなる未硬化上層3を形成する。紫外線を照射して未硬化下地層2を重合させ、加熱処理により未硬化上層3を重合させる。未硬化上層3の重合時にポリシロキサン組成物のシラノール基と未硬化上層3のシラノール基とが脱水結合反応によりシロキサン結合され、下地層2と上層3とが強固に結合する。

Claim (excerpt)：

樹脂基板上に有機系耐摩耗ラジカル重合硬化組成物からなる未硬化下地層を形成する未硬化下地層形成工程と、該未硬化下地層上にシリコン系耐摩耗熱重合硬化組成物からなる未硬化上層を形成する未硬化上層形成工程と、光若しくは電子線の照射又は加熱処理により該未硬化下地層を重合させる下地層重合硬化工程と、加熱処理により該未硬化上層を重合させる上層重合硬化工程と、を有する耐摩耗薄膜形成方法であって、前記未硬化下地層は、さらにシラノール基を有するポリシロキサン組成物を含有することを特徴とする耐摩耗薄膜形成方法。

IPC (8)：

C08J 7/04 , B32B 7/02 , B32B 27/00 101 , B32B 27/08 , B32B 27/16 , C08J 7/00 301 , C08J 7/00 302 , C08L101:00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特表昭62-502623
成形物の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-285210 Applicant：三菱レイヨン株式会社
被覆積層体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-215591 Applicant：東レ株式会社

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