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J-GLOBAL ID:200903021164045385
シリルシクロペンタシランおよびその用途
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 正孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000069313
Publication number (International publication number):2001253706
Application date: Mar. 13, 2000
Publication date: Sep. 18, 2001
Summary:
【要約】【課題】 シクロペンタシランやビニルモノマーのラジカル重合開始剤として有用な新規シラン化合物の提供。【解決手段】 シリルシクロペンタシランおよびそのラジカル重合開始剤としての用途。
Claim (excerpt):
下記式【化1】で表されるシリルシクロペンタシラン。
IPC (3):
C01B 33/04
, C08F 4/58
, C08G 77/60
FI (3):
C01B 33/04
, C08F 4/58
, C08G 77/60
F-Term (12):
4G072AA05
, 4G072HH29
, 4G072JJ01
, 4G072JJ14
, 4G072KK07
, 4G072MM01
, 4G072UU15
, 4J015DA10
, 4J035JA01
, 4J035JB03
, 4J035LA03
, 4J035LB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
特開昭60-131970
-
重合開始剤およびこれを用いた重合方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-280906
Applicant:株式会社東芝
-
シリコン粒子の製造方法及びシリコン膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-205984
Applicant:シャープ株式会社
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Article cited by the Patent:
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