シリコン粒子の製造方法及びシリコン膜の形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：梅田勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997205984
Publication number (International publication number)：1999049507
Application date： Jul. 31, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】液体状高次シランからシリコン膜を形成する際、Ni等の、不純物となりうる物質を用いることなしに低コスト、簡便でかつ低温形成が可能となるpoly-Si膜の形成方法を提供する。【解決手段】シリコン粒子の製造、シリコン膜の形成ともに共通の原料として、爆発性、発火性のより低い液体状高次シランと、それよりも蒸気圧の低いアルコキシシラン或いはアルコキシシロキサンとの混合液体を用いる。この混合液体をスピンコータ8により基体9に塗布し、ゲージ圧50kPa以上に加圧して原料の一部からシリコン粒子を得る。さらに、多結晶シリコン膜を得るには、昇温して残留アルコキシシラン又は残留アルコキシシロキサンを蒸発させ、さらに加熱して前記方法で得たシリコン粒子を核として高次シランを重合させる。

Claim (excerpt)：

液体状高次シランと、液体状アルコキシシラン又は液体状アルコキシシロキサンとを混合或いは接触させた後、加圧することによりシリコン粒子を得ることを特徴とするシリコン粒子の製造方法。

IPC (3)：

C01B 33/02 , B01J 19/00 , H01L 31/04

FI (3)：

C01B 33/02 D , B01J 19/00 K , H01L 31/04 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

シリコンの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-041680 Applicant：株式会社高純度化学研究所

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