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J-GLOBAL ID：200903021201307697

光ディスク及びその製造方法

Inventor： 中野 淳
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994206696
Publication number (International publication number)：1996077629
Application date： Aug. 31, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 フライング方式を用いた光ディスクシステムにおいて、浮上型磁気ヘッドの安定浮上面積が増大して記録容量を増加させることが可能となり、しかも保護膜周縁部に形成される隆起部の形状を均一なものとする。【構成】 保護膜3の周縁部に形成される隆起部4のディスク径方向の幅が0.9mm以下となるように形成して光磁気ディスクを構成する。

Claim (excerpt)：

基盤上に記録層が成膜され、この記録層上に保護膜がスピンコート法により成膜されてなる光ディスクにおいて、上記保護膜の周縁部に形成される隆起部のディスク径方向の幅が0.9mm以下であることを特徴とする光ディスク。

IPC (2)：

G11B 11/10 521 ,  G11B 11/10 541

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光ディスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-341938   Applicant：ソニー株式会社