Pat
J-GLOBAL ID:200903021524925110

近接場光触媒装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003381126
Publication number (International publication number):2005144225
Application date: Nov. 11, 2003
Publication date: Jun. 09, 2005
Summary:
【課題】 紫外光よりも長波長である低エネルギーの光を用いて近接場光を生成することにより、高い光触媒活性を維持しつつ有機物を分解する。【解決手段】 所定の波長の光を供給する光源11と、光源11から供給された光に応じて近接場光を発生させる近接場光発生部12と、近接場光発生部12により発生された近接場光を光触媒として被照射対象へ照射する照射部13とを備え、供給された所定の波長の光に応じて近接場光を発生させ、当該発生された近接場光を光触媒として被照射対象へ照射する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
所定の波長の光を供給する光源と、 上記光源から供給された光に応じて近接場光を発生させる近接場光発生手段と、 上記近接場光発生手段により発生された近接場光を光触媒として被照射対象へ照射する照射手段とを備えること を特徴とする近接場光触媒装置。
IPC (5):
B01J19/12 ,  A61L9/00 ,  A61L9/18 ,  B01D53/86 ,  B01J35/02
FI (6):
B01J19/12 C ,  A61L9/00 C ,  A61L9/18 ,  B01J35/02 J ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 G
F-Term (29):
4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080QQ11 ,  4D048AA17 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA15X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048EA01 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB06B ,  4G069BC12B ,  4G069BC50B ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32 ,  4G075FA06 ,  4G075FC04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 光触媒性反応装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-215330   Applicant:キヤノン電子株式会社
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page