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J-GLOBAL ID：200903021633080022

レーザ加工装置

Inventor： 山根 茂樹
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 粟野 重孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995207897
Publication number (International publication number)：1997029467
Application date： Jul. 21, 1995
Publication date： Feb. 04, 1997
Summary：

【要約】【目的】 大出力で、かつビーム品質のよいレーザ加工装置を提供する。【構成】 第1のレーザ発振器と第2のレーザ発振器は、互いに独立で偏光方向が90度異なる直線偏光の第1のレーザ光と第2のレーザ光を出力し、両者の交差する位置に配置されたZnSeの透過板4が、いずれか一方のレーザ光に対してブリュースタ角度になるように設置されることにより、全透過と全反射のレーザ光とが同一光線上を進行して加算され、出力が加算されて大きくなるとともに、偏光方向がランダムな加工用のレーザ光を生成する。このレーザ光は円偏波に近い加工結果をもたらして、大出力でありながらビーム品質が向上している。

Claim (excerpt)：

直線偏光の第1のレーザ光を出力する第1のレーザ発振器と、前記第1のレーザ光と偏光方向が90度異なる直線偏光の第2のレーザ光を出力する第2のレーザ発振器と、前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光とを交差させた位置に、前記第1または第2のレーザ光のいずれか一方に対してブリュースタ角度で設置した透過板とを備え、前記透過板を透過したレーザ光と反射したレーザ光とが同一光線上に進行して加算され、偏光方向がランダムな加工用のレーザ光を生成するようにしたレーザ加工装置。

IPC (2)：

B23K 26/00 ,  H01S 3/00

FI (3)：

B23K 26/00 E ,  B23K 26/00 Z ,  H01S 3/00 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開平4-061141
  
• レーザ加工光学装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-153277   Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (2)

• 特開平4-061141
  
• レーザ加工光学装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-153277   Applicant：株式会社日立製作所