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J-GLOBAL ID：200903021685063371

投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法

Inventor： 早田 滋 ,  高橋 和弘
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993196908
Publication number (International publication number)：1995029816
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ主光線傾き角をモニターし、高解像力の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】 光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系と、該投影光学系の瞳面と共役な面内において、該2次光源と共役な位置から射出する光線の該基板面への入射角度を測定する検出手段とを有していること。

Claim (excerpt)：

光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系と、該投影光学系の瞳面と共役な面内において、該2次光源と共役な位置から射出する光線の該基板面への入射角度を測定する検出手段とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 516 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-237829   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平3-065623
  
• 特開昭62-266513