Pat
J-GLOBAL ID：200903021720439754

添加剤除去方法及び溶液製膜方法

Inventor：
今井 成昭

About 今井 成昭


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小林 和憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001364520
Publication number (International publication number)：2003165866
Application date： Nov. 29, 2001
Publication date： Jun. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 簡単な方法により添加剤を除去し、ガス回収ラインの閉塞を抑制する。【解決手段】 乾燥ゾーンから排気されたガス50には、揮発した有機溶剤と添加剤であるトリフェニルホスフェート(TPP、融点50°C)が含まれている。熱交換器51により冷風ガス61と熱交換がなされ、熱風ガス50の温度は低下する。この際、TPPの融点をMとしたときに、熱交換器51の出口51aの温度Tを、(M-20)≦T≦Mの範囲に温度調節器60により調節する。送風器52によりガス50を冷却器53に送風する。冷却器53で冷水85により、ガス50の温度を下げる。ガス50の温度は、熱交換器51により低下しているので、ガス50中に含まれるTPPは、冷却器51内での急激な液化が抑制され、ガス経路81の閉塞が抑制される。
Claim (excerpt)：
溶剤を含むガスを回収する際に、そのガス中に含まれる揮発した添加剤の除去方法において、前記ガスの温度を下げる第1の工程と、前記ガスの温度を前記第1の工程よりも下げて、前記揮発した添加剤を除去する第2の工程とを有し、前記第1の工程で、前記ガスの温度を下げる装置の出口側の温度Tを、前記ガス中に含まれる揮発した添加剤のうち最も固形分率の高い物質の融点をMとしたときに、(M-20)≦T≦Mの範囲にすることを特徴とする添加剤除去方法。
IPC (7)：
C08J 11/02 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/72 ,  B29C 41/24 ,  B29C 41/34 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
FI (7)：
C08J 11/02 ,  B29C 41/24 ,  B29C 41/34 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00 ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB
F-Term (21)：
4D002AA27 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002AC07 ,  4D002BA04 ,  4D002BA13 ,  4D002EA01 ,  4D002EA02 ,  4F205AA01 ,  4F205AG01 ,  4F205GA07 ,  4F205GB01 ,  4F205GF51 ,  4F205GN22 ,  4F205GW45 ,  4F301AB01 ,  4F301CA04 ,  4F301CA14 ,  4F301CA41 ,  4F301CA51 ,  4F301CA65
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM