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J-GLOBAL ID:200903021842512061

好ましくは廃棄物のような固形の材料、特に汚染除去を行うための処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 東島 隆治 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1994507867
Publication number (International publication number):1996503864
Application date: Sep. 21, 1993
Publication date: Apr. 30, 1996
Summary:
【要約】本発明は、汚染除去ハウジング(5)、このハウジング(5)にオゾン含有ガスを供給し得るオゾン発生器(1)、汚染除去ハウジング(5)中に含まれているオゾン含有ガス中のオゾンを分解し得るオゾン分解装置(16)を含むタイプの、廃棄物の汚染除去装置に関する。本発明の装置は、さらに、オゾン発生器(1)と汚染除去ハウジング(5)の間に挿入されたオゾン含有ガスアキュムレーター(4)を含み、このアキュムレーター(4)は、汚染除去ハウジング(5)内循環用のガス中のオゾン濃度を増加し急速に変化させるような閉回路を、適当な配管(22、23、24)を介してオゾン発生器(1)と共に構成し得る。
Claim (excerpt):
処理すべき媒体の処理ハウジング(5)、このハウジング(5)にオゾン含有ガスを供給するためのオゾン発生器(1)、処理ハウジング(5)中に含まれるオゾン含有ガス中のオゾンを分解するためのオゾン分解装置を含むタイプであって、 さらにオゾン発生器(1)と処理ハウジング(5)間に挿入されたオゾン含有ガスアキュムレーター(4)を含み、このアキュムレーター(4)は、汚染除去ハウジング(5)内で循環させるべきガス中のオゾン濃度を急速に上昇および変化させるように、配管(22,23,24)を介してオゾン発生器(1)と共に閉回路を構築していることを特徴とする、廃棄物のような液体、気体または固体材料、特に医療用媒体に由来するものの処理、特に汚染除去、消毒、脱臭のための処理装置。
IPC (2):
A61L 11/00 ,  A61L 2/20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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