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J-GLOBAL ID：200903021856037897
殺菌水、その製造法及び製造装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松井 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994085957
Publication number (International publication number)：1995265861
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：
【要約】【目的】 次亜塩素酸(HClO)の生成を阻害し、残留塩素濃度が低くても、高い殺菌力を示す殺菌水、その製造法及び製造装置を提供する。【構成】 原水を5〜20μmのフィルター7に通した後、陽極14と陰極13との間にイオン透過性の隔膜17を有する電解槽12に導入して、電圧50〜70V、電流16〜25A、陽極室19からの吐出量3〜5L/分、陰極室18からの吐出量5〜7L/分の条件で電解する。その結果、陽極室19側から残留塩素濃度10ppm以下、pH3以下、酸化還元電位1000〜1300mVの酸性水が得られ、陰極室18側からpH10以上、酸化還元電位-500〜-950mVのアルカリ性水が得られ、これらの酸性水及びアルカリ性水は、優れた殺菌力を示す。なお、電解質の少ない原水には200ppmを超えない範囲で塩化ナトリウムを添加でき、その場合でも残留塩素濃度は変らない。
Claim (excerpt)：
陽極と陰極との間にイオン透過性の隔膜を有する電解槽を用いて原水を電解したとき、陽極室側から得られる酸性水であって、pH3以下、表面張力68ダイン/cm以下、残留塩素濃度10ppm以下で、酸化還元電位が1000〜1300mVであることを特徴とする殺菌水。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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