現像装置および現像方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福島祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113960
Publication number (International publication number)：1999307433
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】現像後のパターン線幅の均一性を向上させることができる現像装置および現像方法を提供することである。【解決手段】基板保持部1に静止状態で保持された基板100外の一方側の位置から基板100上を通過して基板100外の他方側の位置までスリット状吐出口を有する現像液吐出ノズル11を移動させつつ基板100上に現像液を供給する。現像液吐出ノズル11による基板100上への現像液の供給終了から一定時間経過後、基板保持部1に保持された基板100を所定の回転数で回転させた後に基板保持部100により基板100を所定時間静止状態で保持させる。基板100の回転および基板100の静止状態での保持を所定の回数繰り返す。

Claim (excerpt)：

基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置から前記基板上を通過して基板外の他方側の位置まで前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、前記現像液吐出ノズルによる基板上への現像液の供給終了から一定時間経過後、前記駆動手段により前記基板保持手段に保持された基板を所定の回転数で回転させた後に前記基板保持手段により基板を所定時間静止状態で保持させる制御手段とを備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/30 502

FI (3)：

H01L 21/30 569 C , B05C 11/08 , G03F 7/30 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

基板の現像処理方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-188819 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
レジスト現像方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-078314 Applicant：ソニー株式会社
特開昭57-192955

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