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J-GLOBAL ID：200903021937263808

リチウムアルミノシリケート系セラミックス

Inventor： 井原 俊之
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000371627
Publication number (International publication number)：2002173363
Application date： Dec. 06, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】軽量低熱膨張で、比較的高剛性のセラミックスを得る。【解決手段】一般式LiAlSiO4で表されるβ-ユ-クリプタイトを90〜99重量%、酸化イットリウムを10〜1重量%含む焼結体とすることによって、比重2.3〜2.6、ヤング率108〜119GPa、熱膨張率-1.1〜-0.3×10-6/°Cとなるセラミックスを得る。

Claim (excerpt)：

LiAlSiO4で表されるβ-ユークリプタイトを90〜99重量%、酸化イットリウムを10〜1重量%含むことを特徴とするリチウムアルミノシリケート系セラミックス。

F-Term (7)：

4G030AA02 ,  4G030AA12 ,  4G030AA16 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030BA18 ,  4G030GA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 低熱膨張性セラミックス及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-022111   Applicant：京セラ株式会社
• 特開昭56-109870
  
• 低熱膨張性セラミックス大平板及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-305055   Applicant：ニチアス株式会社
• 露光装置およびそれに用いられる支持部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-236568   Applicant：太平洋セメント株式会社

Cited by examiner (5)

• 特開昭56-109870
  
• 低熱膨張性セラミックス大平板及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-305055   Applicant：ニチアス株式会社
• 低熱膨張性セラミックス及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-022111   Applicant：京セラ株式会社
• 露光装置およびそれに用いられる支持部材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-236568   Applicant：太平洋セメント株式会社
• 特開昭56-109870
  

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• リチア系セラミックス(LAS)の焼結におよぼす原料組成及び添加剤の影響

Cited by examiner (1)

• リチア系セラミックス(LAS)の焼結におよぼす原料組成及び添加剤の影響