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J-GLOBAL ID：200903090317732044

露光装置およびそれに用いられる支持部材

Inventor：
酒巻 誠

About 酒巻 誠

, 
和田 千春

About 和田 千春


Applicant, Patent owner：
太平洋セメント株式会社

About 太平洋セメント株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999236568
Publication number (International publication number)：2001068536
Application date： Aug. 24, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 高精度で露光処理を行うことができる露光装置およびそれに用いられる支持部材を提供すること。また、上記に加えて半導体ウェハを傷つけたり、パーティクルを発生させることがない露光装置およびそれに用いられる支持部材を提供すること。【解決手段】 半導体ウェハ4を支持する支持部2と、支持部2に支持された半導体ウェハ4に対して微細パターンを形成するための露光処理を施す露光部3とを有する露光装置1は、支持部2を構成する支持部材である静電チャック5、XYステージ6、ステージ駆動系7の少なくとも1つが、20〜30°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6〜1×10-6/°C、ヤング率が150GPa以上、比剛性が50GPa/g/cm3以上のセラミックスからなる。
Claim (excerpt)：
半導体ウェハを支持する支持部と、支持部に支持された半導体ウェハに対して微細パターンを形成するための露光処理を施す露光部とを有する露光装置であって、前記支持部を構成する支持部材の少なくとも1つが、20〜30°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6〜1×10-6/°C、ヤング率が150GPa以上、比剛性が50GPa/g/cm3以上のセラミックスからなることを特徴とする露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/68 ,  C04B 35/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (4)：
H01L 21/68 N ,  G03F 7/20 521 ,  C04B 35/00 H ,  H01L 21/30 503 A
F-Term (22)：
4G030AA02 ,  4G030AA16 ,  4G030AA17 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA41 ,  4G030AA47 ,  4G030AA51 ,  4G030AA52 ,  4G030BA14 ,  4G030BA18 ,  4G030BA24 ,  4G030HA16 ,  4G030HA18 ,  4G030HA25 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA16 ,  5F031MA27 ,  5F031PA26 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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