ブロックポリマーを含むマニキュア組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (8)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦 , 実広信哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003336450
Publication number (International publication number)：2004269497
Application date： Sep. 26, 2003
Publication date： Sep. 30, 2004
Summary：

【課題】爪上で良好な保持力及び摩耗耐性を示す光沢性の皮膜を得ること【解決手段】有機溶媒を含む化粧品的に許容可能な媒体中に、少なくとも1つのブロックポリマーを含み、30°Cの温度及び20Hzの振動数で0.4以上のタンジェントデルタ(tgδ)減衰力を有する皮膜を形成可能なマニキュア組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

有機溶媒を含む化粧品的に許容可能な媒体中に、少なくとも1つのブロックポリマーを含み、 30°Cの温度及び20Hzの振動数で0.4以上のタンジェントデルタ(tgδ)減衰力を有する皮膜を形成可能なマニキュア組成物。

IPC (1)：

A61K7/04

FI (1)：

A61K7/04

F-Term (26)：

4C083AB442 , 4C083AC011 , 4C083AC031 , 4C083AC101 , 4C083AC102 , 4C083AC111 , 4C083AC112 , 4C083AC121 , 4C083AC171 , 4C083AC211 , 4C083AC351 , 4C083AC352 , 4C083AC391 , 4C083AC761 , 4C083AC811 , 4C083AC841 , 4C083AD011 , 4C083AD091 , 4C083AD092 , 4C083BB21 , 4C083CC28 , 4C083DD12 , 4C083DD47 , 4C083EE03 , 4C083EE07 , 4C083FF01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

欧州特許出願公開第648485号

Cited by examiner (8)

被膜形成剤及び化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-263720 Applicant：花王株式会社
2液型水系美爪料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-103059 Applicant：花王株式会社
ネイル化粧用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-257117 Applicant：日本油脂株式会社

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