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J-GLOBAL ID:200903022139783718

水素分離膜およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 吉田 研二 ,  石田 純
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004070626
Publication number (International publication number):2005254161
Application date: Mar. 12, 2004
Publication date: Sep. 22, 2005
Summary:
【課題】耐熱性、耐水蒸気性に優れた水素分離膜を提供する。【解決手段】25重量%以上の純粋酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを用い、化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を閉塞するようにシリカが製膜されていることを特徴とする水素分離膜およびその製造方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
25重量%以上の純粋酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを用い、化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を閉塞するようにシリカが製膜されていることを特徴とする水素分離膜。
IPC (6):
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B3/50 ,  C04B41/87
FI (6):
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B3/50 ,  C04B41/87 G
F-Term (16):
4D006GA41 ,  4D006JB01 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MB01 ,  4D006MB15 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006PA03 ,  4D006PB66 ,  4G140FA02 ,  4G140FB06 ,  4G140FC01 ,  4G140FD01 ,  4G140FE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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