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J-GLOBAL ID:200903022157321268

有機性物質を含有する廃水の浄化処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭 ,  池浦 敏明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004181784
Publication number (International publication number):2005138099
Application date: Jun. 18, 2004
Publication date: Jun. 02, 2005
Summary:
【課題】有機性物質を含有する廃水の浄化処理方法を提供する。【解決手段】 超臨界処理又は亜臨界処理を行って有機性物質を含有する廃水の浄化処理方法において、固液分離処理が、凝集剤分離処理、沈降分離処理、浮上分離処理、濾過処理から選ばれる少なくとも1種の前処理をおこない、次いで生物学的処理である1次処理をおこなったのち、超臨界処理又は亜臨界処理である2次処理を含む処理により浄化処理することを特徴とする有機性物質を含有する廃水の浄化処理方法を提供する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
有機性物質を含有する廃水を、超臨界処理又は亜臨界処理を補助する補助処理をおこなった後に、超臨界処理又は亜臨界処理を含む処理により浄化処理することを特徴とする有機性物質を含有する廃水の浄化処理方法。
IPC (8):
C02F1/74 ,  B01J3/00 ,  C02F1/24 ,  C02F1/30 ,  C02F1/461 ,  C02F1/52 ,  C02F3/34 ,  C02F9/00
FI (18):
C02F1/74 101 ,  B01J3/00 A ,  C02F1/24 B ,  C02F1/30 ,  C02F1/52 G ,  C02F3/34 Z ,  C02F9/00 501B ,  C02F9/00 501E ,  C02F9/00 502D ,  C02F9/00 502M ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 502P ,  C02F9/00 502R ,  C02F9/00 502Z ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 504A ,  C02F9/00 504E ,  C02F1/46 101C
F-Term (71):
4D015BA19 ,  4D015BA23 ,  4D015BA24 ,  4D015BB05 ,  4D015BB08 ,  4D015CA08 ,  4D015DA04 ,  4D015DA05 ,  4D015DA08 ,  4D015DA13 ,  4D015DA15 ,  4D015DA16 ,  4D015DB01 ,  4D015DB02 ,  4D015DB12 ,  4D015DB14 ,  4D015DB22 ,  4D015FA01 ,  4D015FA02 ,  4D015FA12 ,  4D015FA13 ,  4D015FA15 ,  4D015FA24 ,  4D015FA26 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB05 ,  4D037BA01 ,  4D037BA16 ,  4D037BB09 ,  4D037CA02 ,  4D037CA04 ,  4D037CA06 ,  4D037CA07 ,  4D037CA08 ,  4D037CA11 ,  4D040DD03 ,  4D040DD11 ,  4D040DD22 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB07 ,  4D050AB11 ,  4D050BC01 ,  4D050BC02 ,  4D050BC04 ,  4D050BC06 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA04 ,  4D050CA07 ,  4D050CA10 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16 ,  4D050CA17 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC06 ,  4D061DC08 ,  4D061EA03 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB27 ,  4D061ED12 ,  4D061FA04 ,  4D061FA07 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061FA15 ,  4D061FA16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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