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J-GLOBAL ID：200903022217870312
透明導電膜付基体の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (4)：
廣田 雅紀
, 小澤 誠次
, 岡 晴子
, ▲高▼津 一也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002190336
Publication number (International publication number)：2004039269
Application date： Jun. 28, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：
【課題】ファイバー状又は球状等の曲面又は凹凸を有する基体に極めて均一な膜厚の透明導電膜を容易に形成することができる透明導電膜付基体の製造方法を提供する。【解決手段】ファイバー状又は球状等の曲面又は凸凹の形状を有する基体上に、直接又は中間膜を介して、パイロゾルプロセス法によって透明導電膜(ITO膜)を形成することを特徴とする透明導電膜付基体の製造方法である。
Claim (excerpt)：
曲面又は凸凹の形状を有する基体上に、直接又は中間膜を介して、パイロゾルプロセス法によって透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜付基体の製造方法。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
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