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J-GLOBAL ID：200903022230221650

レジスト剥離液管理装置

Inventor： 中川 俊元 ,  塚田 光三 ,  小川 修 ,  宝山 隆博 ,  西嶋 佳孝
Applicant, Patent owner： 株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社
Agent (1)： 塩出 真一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996193005
Publication number (International publication number)：1998022261
Application date： Jul. 02, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 半導体製造工程や液晶基板製造工程においてレジスト剥離に用いられるレジスト剥離液の管理装置において、レジスト剥離液品質を一定に制御し、かつ液使用量の削減、操業停止時間の減少及びコストの低減を図る。【解決手段】 レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計16により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計3により検出してレジスト剥離原液と純水とを補給する第一補給手段と、レジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計15により検出してレジスト剥離原液及び純水の少なくとも一方を補給する第二補給手段とを備えるように構成する。

Claim (excerpt)：

レジスト剥離原液と純水とを供給して一定液面レベルに保つ液面調節・補給手段と、このレジスト剥離処理槽内のレジスト剥離液の水分濃度を吸光光度計により検出してレジスト剥離原液及び純水の少なくとも一方を補給する補給手段とを備えたことを特徴とするレジスト剥離液管理装置。

IPC (3)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01L 21/306 J ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レジスト剥離液管理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-333249   Applicant：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社