Pat
J-GLOBAL ID：200903022356311514

欠陥検査方法及びその装置

Inventor：
北側 光博

About 北側 光博

, 
小池 史朗

About 小池 史朗


Applicant, Patent owner：
株式会社神戸製鋼所

About 株式会社神戸製鋼所


Agent (1)： 本庄 武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065297
Publication number (International publication number)：2000258353
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：
【要約】【課題】 検査対象物の撮像画像から得られる各画素毎の濃度データに基づいて欠陥を検査する場合に,良品画像と上記撮像画像との濃度差が所定の閾値内にあるか否かで欠陥検出を行う場合には,検査対象物に,場所による濃度のバラツキや生産ロット毎の濃度のバラツキ等があると誤判定される場合があった。【解決手段】 全濃度データを局所領域に分割し(ステップS3),画素単位の濃度データが上記局所領域内の平均濃度から大きくかけ離れている場合にその画素を欠陥画素であると判断する,相対的な欠陥判定を行う(ステップS7)。これにより,検査対象物の場所による濃度のバラツキや,生産ロット毎の濃度のバラツキ等がある場合でも,そのバラツキの影響を受けることなく安定して欠陥検出を行うことが可能である。またそれに先立って,絶対濃度による閾値を用いた濃度判定を局所領域単位で行う(ステップS5)。これにより,撮像画像の濃度が少なくとも部分的に,極端に基準濃度データからかけ離れてしまった場合には,その部分を欠陥であると判断できる。
Claim (excerpt)：
検査対象物の撮像画像から得られる各画素毎の濃度データに基づいて上記検査対象物の欠陥を検査する欠陥検査方法において,上記検査対象物の撮像範囲を所定の小領域に分割する領域分割工程と,上記領域分割工程で得られた上記小領域毎に,上記検査対象物の濃度データの平均濃度を算出する平均濃度算出工程と,上記検査対象物の各画素毎の濃度データが,上記平均濃度算出工程で得られた各小領域での平均濃度を基準として予め設定された第1の濃度範囲内に含まれるか否かを判断し,上記範囲内に含まれない場合にその画素を欠陥画素であると判定する第1の判定工程と,上記第1の判定工程で得られた各画素毎の判定結果に基づいて,上記検査対象物の最終的な欠陥判定を行う最終判定工程とを具備してなることを特徴とする欠陥検査方法。
FI (2)：
G01N 21/88 645 B ,  G01N 21/88 J
F-Term (15)：
2G051AA65 ,  2G051AB07 ,  2G051AC04 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EB02 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  2G051ED08 ,  2G051ED09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM