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J-GLOBAL ID：200903022367453434

処理装置

Inventor： 森本 秀敏 ,  久保 浩一 ,  井上 陽介
Applicant, Patent owner： 日本国土開発株式会社
Agent (1)： 提中 清彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007117513
Publication number (International publication number)：2008272638
Application date： Apr. 26, 2007
Publication date： Nov. 13, 2008
Summary：

【課題】 簡単かつ安価な構成でありながら、メンテナンスフリーを実現しつつ、外部へ有害な物質を流出させることなく、被処理流体に対して効率良く浄化、殺菌、消毒等の所定の処理を施すことができる処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 貯水槽1から供給通路2を介して被処理水がマイクロバブラー3に供給され、マイクロバブラー3において微細気泡が発生された被処理水がリアクター装置7に供給される。リアクター装置7の処理空間8では、微細気泡の有する特性を利用して、被処理水中に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化したり、細菌等を殺菌、消毒等する。処理空間8内で所定に処理された液体を排出するための液体排出通路11は、マイクロバブラー3に接続される。また、処理空間8の上方空間10内の気体は、気体還流通路13を介して、マイクロバブラー3に供給される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水を主成分とする液体にオゾンを含む気体からなる微細気泡を発生させつつ吐出する微細気泡発生装置と、 当該微細気泡発生装置から供給される微細気泡が発生された液体を介して被処理流体に対して所定の処理を施す処理空間を有するリアクター装置と、 を備えた処理装置であって、 リアクター装置に供給された液体を、微細気泡発生装置において用いられる液体として利用することを特徴とする処理装置。

IPC (4)：

C02F 1/78 ,  B01D 53/44 ,  B01D 53/70 ,  B01F 1/00

FI (4)：

C02F1/78 ,  B01D53/34 117Z ,  B01D53/34 134E ,  B01F1/00 A

F-Term (26)：

4D002AA21 ,  4D002AA32 ,  4D002AA33 ,  4D002AA34 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA09 ,  4D002CA01 ,  4D002DA51 ,  4D050AA02 ,  4D050AA04 ,  4D050AA13 ,  4D050AB01 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050AB12 ,  4D050AB13 ,  4D050AB14 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4G035AA01 ,  4G035AB27 ,  4G035AC29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特許第3782090号明細書
  
• 微細気泡を利用した水処理設備
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-207963   Applicant：株式会社日立製作所