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J-GLOBAL ID:200903051025400541
微細気泡を利用した水処理設備
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井上 学
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005207963
Publication number (International publication number):2007021393
Application date: Jul. 19, 2005
Publication date: Feb. 01, 2007
Summary:
【課題】 オゾン微細気泡を使用した経済性と信頼性の高い水処理設備を提供する。【解決手段】 オゾン発生装置2で発生したオゾンガスは、注入装置3で被処理水と混合し、気液二相流になる。この気液二相流を高圧ポンプ4で加圧し、孔数可変型多孔板で構成される微細気泡生成装置5を通してオゾン微細気泡を発生する。水処理槽1では、制御器8は圧力計10,流量計11,溶存オゾン濃度計18の計測信号を入力とし、高圧ポンプ4の回転数と微細気泡生成装置5の孔数、及びオゾンガス発生装置2の発生流量を制御する。これによって、オゾン微細気泡生成のための加圧圧力を維持した状態で水処理槽1へのオゾン注入流量を調整できるので使用電力が低減化され、水処理設備の経済性が向上する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
オゾンガスを発生させるオゾン発生装置と、該オゾン発生装置により発生されたオゾンガスを被処理水中に注入するオゾンガス注入装置と、該オゾンガス注入装置によりオゾンガスが注入された被処理水を加圧する高圧ポンプと、該高圧ポンプで加圧されたオゾンガス混入の被処理水から微細気泡を生成させる微細気泡生成装置を有し、該微細気泡生成装置で生成されたオゾン微細気泡混入の被処理水を水処理槽に注入して被処理水を消毒処理する微細気泡を利用した水処理設備。
IPC (5):
C02F 1/50
, C02F 1/78
, B01F 1/00
, B01F 5/06
, C01B 13/10
FI (12):
C02F1/50 510A
, C02F1/78
, C02F1/50 520A
, C02F1/50 520P
, C02F1/50 531R
, C02F1/50 540A
, C02F1/50 550C
, C02F1/50 550D
, C02F1/50 550L
, B01F1/00 A
, B01F5/06
, C01B13/10 Z
F-Term (20):
4D050AA02
, 4D050AA04
, 4D050AA06
, 4D050AA13
, 4D050AB03
, 4D050AB04
, 4D050AB06
, 4D050AB07
, 4D050BB02
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4G035AA01
, 4G035AA02
, 4G035AC26
, 4G042CB24
, 4G042CB26
, 4G042CE04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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加圧式オゾン処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-031689
Applicant:株式会社日立製作所
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マイクロバブル発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-322141
Applicant:株式会社丸八ポンプ製作所
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加圧型下方注入式多段オゾン接触槽とその制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-254096
Applicant:株式会社明電舎
Cited by examiner (3)
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微細気泡発生装置及び水流混合器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-243123
Applicant:旭テック株式会社
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特開平3-096776
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調節弁
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-178668
Applicant:キヤノン株式会社
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