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J-GLOBAL ID：200903022373045186

電離放射線照射用組成物及び電離放射線照射方法

Inventor： 渡部 慶二 ,  矢野 映 ,  並木 崇久 ,  矢野 恵子 ,  丸山 隆司 ,  中村 富雄 ,  清水 茂 ,  斉藤 隆司 ,  鵜沢 正志 ,  石川 雅美
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  日東化学工業株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994246511
Publication number (International publication number)：1996109351
Application date： Oct. 12, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 工程が簡便で汎用性があり、チャージアップ防止効果に優れ、しかも露光から露光後ベークまでの引き置き時間に対する感度の安定化効果も有する電離放射線照射用組成物及び電離放射線照射方法を提供する。【構成】 式(1),(2)の繰り返し単位を有する重量平均分子量1万以上であり常温固体である可溶性アニリン系ポリマ0.01〜30重量部及び(b)溶媒100重量部を含む組成物を基板上に塗布し、電離放射線を照射する。(式中、R1〜R4は電子供与基を表し、Y1〜Y4は-SO3-又は-COO-を表し、M1〜M4は水素イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン(炭素数1〜8)、芳香族アンモニウムイオン、又は芳香族複素環の四級イオンを表わす。)

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(1)及び(2)で表わされる繰り返し単位を有する重量平均分子量1万以上であり常温固体である可溶性アニリン系ポリマ0.01〜30重量部及び(b)溶媒100重量部を含むことを特徴とする電離放射線照射用組成物。【化1】(式中、R1 〜R4 は電子供与基を表し、Y1 〜Y4 は-SO3 -又は-COO-を表し、M1 〜M4 は水素イオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン(炭素数1〜8)、芳香族アンモニウムイオン、又は芳香族複素環の四級イオンを表わす。)

IPC (12)：

C09D179/08 PLT ,  C08G 73/00 NTB ,  C08L 79/08 LQZ ,  C09D 5/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/26 501 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/266 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (5)：

H01L 21/265 M ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 541 U ,  H01L 21/30 573

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• パターン形成用導電性組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-157953   Applicant：富士通株式会社, 日東化学工業株式会社